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OWIS® Ultrahochvakuum: das nächste Level

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Liebe Leserin, lieber Leser
In diesem Newsletter möchten wir Sie zu den neusten Entwicklungen im Bereich der Optische Strahlführungssysteme und Positioniersysteme informieren. Lassen Sie sich überraschen, welche Neuheiten dazu u.a. auch an der Laser Messe in München von OWIS vorgeführt wurden. Viel Spass beim Lesen!

Ultrahochvakuum: das nächste Level
Zum Herbst dieses Jahres erreicht OWIS® das nächste Level im Bereich Vakuum: mit vakuum-präparierten Positionierern und optischen Komponenten für Vakuumanwendungen in Druckbereichen bis 10-9 mbar. Bisher waren OWIS® Vakuum-Produkte für Bereiche bis 10-6 mbar ausgelegt. Die neuen Ultrahochvakuum-Produkte bedeuten eine erhebliche Ausweitung der Einsatzmöglichkeiten. Lesen Sie hier weiter …

Neue Rasterplatte: universell, leicht, individuell
Die neuen Montage- und Rasterplatten wurden gezielt entwickelt, um optische Komponenten in jeder kundenspezifischen Position zu fixieren. Ermöglicht wird das, indem auf ein gefrästes Standard-Gewinderaster verzichtet wird. Lesen Sie hier weiter …

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