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PHOTON ENERGY GmbH produit des sources de faisceaux laser OEM pour les syst\u00e8mes de traitement de mat\u00e9riaux industriels et de marquage au laser.<\/span><\/p>\n Afin d'obtenir des contrastes de marquage exceptionnellement \u00e9lev\u00e9s et de pouvoir traiter presque tous les mat\u00e9riaux, PHOTON ENERGY a mis au point le laser picoseconde CEPHEUS. Les grands avantages des marquages avec ce laser \u00e0 l'\u00e9tat solide pomp\u00e9 par diode et \u00e0 verrouillage de mode sont les dur\u00e9es d'impulsion tr\u00e8s courtes du faisceau d'\u00e9nergie. Ceux-ci permettent des processus d'absorption multiphotoniques non lin\u00e9aires, ce qui rend le traitement des mat\u00e9riaux largement ind\u00e9pendant de la longueur d'onde du laser. En d'autres termes, la qualit\u00e9 unique des marquages sur une vari\u00e9t\u00e9 de mat\u00e9riaux d\u00e9pend en grande partie de cette dur\u00e9e d'impulsion extr\u00eamement courte, combin\u00e9e \u00e0 la puissance de cr\u00eate d'impulsions \u00e9lev\u00e9e pour laquelle il n'y a pratiquement aucun changement de temp\u00e9rature \u00e0 la surface.<\/span><\/p>\n Cela signifie que presque tous les mat\u00e9riaux peuvent \u00eatre trait\u00e9s, m\u00eame ceux qui sont transparents \u00e0 la longueur d'onde du laser. Un autre avantage des impulsions laser ultra-courtes est \" l'ablation \u00e0 froid \" du mat\u00e9riau, qui ne repose pas sur la g\u00e9n\u00e9ration de chaleur, telle que les lasers nanosecondes. La nanostructure g\u00e9n\u00e9r\u00e9e \u00e0 la surface sert de pi\u00e8ge \u00e0 la lumi\u00e8re, ce qui permet d'obtenir un contraste consid\u00e9rablement accru et un niveau de noir plus \u00e9lev\u00e9. En outre, il n'existe pas d'angle de r\u00e9flexion (brillance) qui donne \u00e0 la marque un contraste variable ou une couleur changeante lorsque l'angle d'incidence et l'angle de vision changent. Le marquage est donc toujours noir mat. Un autre avantage du traitement avec le CEPHEUS est la propri\u00e9t\u00e9 hydrophobe du marqueur. La nanostructure rejette g\u00e9n\u00e9ralement les liquides, ce qui augmente consid\u00e9rablement la r\u00e9sistance \u00e0 la corrosion, m\u00eame dans les processus de nettoyage chimique et de st\u00e9rilisation.<\/p>\n Pour cette raison, le laser picoseconde CEPHEUS de PHOTON ENERGY est utilis\u00e9 pour tous les processus de traitement au laser dans lesquels les dommages dus \u00e0 la fusion, \u00e0 la d\u00e9formation ou \u00e0 la d\u00e9coloration dus \u00e0 un apport de chaleur sont ind\u00e9sirables et une stabilit\u00e9 optique maximale du marquage est requise.<\/p>\n Le CEPHEUS a la plus haute \u00e9nergie de cr\u00eate d'impulsions disponible sur le march\u00e9 et garantit ainsi moins d'enl\u00e8vement de mati\u00e8re par impulsion laser. Cela augmente consid\u00e9rablement la pr\u00e9cision, r\u00e9sultant en des bords de marquage plus nets et un traitement des mat\u00e9riaux plus pr\u00e9cis.<\/p>\n En r\u00e9sum\u00e9, les marqueurs CEPHEUS de PHOTON ENERGY pr\u00e9sentent les avantages suivants par rapport aux autres lasers UKPL et \u00e0 impulsions plus longues, tels que les sources laser \u00e0 fibres nanosecondes ou les lasers Nd : YAG. Marquage plus rapide en raison de puissances de cr\u00eate d'impulsions plus \u00e9lev\u00e9es et d'impulsions plus courtes<\/p>\n Nous esp\u00e9rons que cette information a suscit\u00e9 votre int\u00e9r\u00eat. Veuillez me contacter \u00e0 tout moment pour des questions, pour coordonner une visite et pour coordonner les marques.<\/span><\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":" PHOTON ENERGY GmbH produit des sources de faisceaux laser OEM pour les syst\u00e8mes de traitement de mat\u00e9riaux industriels et de marquage au laser. Laser picoseconde \u00e0 impulsions ultra courtes pour des contrastes de marquage et un micro-usinage extr\u00eamement \u00e9lev\u00e9s PHOTON ENERGY, CEPHEUS, syst\u00e8me de marquage au laser avec laser picoseconde UKPL (impulsion ultra-courte) Afin d\u2019obtenir […]<\/p>","protected":false},"author":5,"featured_media":1863,"comment_status":"closed","ping_status":"closed","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_monsterinsights_skip_tracking":false,"_monsterinsights_sitenote_active":false,"_monsterinsights_sitenote_note":"","_monsterinsights_sitenote_category":0,"footnotes":""},"categories":[52],"tags":[],"acf":[],"yoast_head":"\nLaser picoseconde \u00e0 impulsions ultra courtes pour des contrastes de marquage et un micro-usinage extr\u00eamement \u00e9lev\u00e9s<\/span><\/h3>\n
PHOTON ENERGY, CEPHEUS, syst\u00e8me de marquage au laser avec laser picoseconde UKPL (impulsion ultra-courte)<\/span><\/h3>\n
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